Todo un éxito curso Microscopia Electrónica de Barrido - Abril 2016

Todo un éxito curso Microscopia Electrónica de Barrido - Abril 2016

La semana del 4 al 8 de abril se llevó a cabo con éxito el curso de Microscopia Electrónica de Barrido y Análisis EDS con duración de 40 horas en el Laboratorio de Microscopia de alta Resolución nLab en el parque Científico y Tecnológico del Estado de Morelos.

Dicho curso fue impartido por especialistas de la compañía Micra Nanotecnología en los equipos de nLab , un FE SEM de alta resolución marca TESCAN en conjunto con un EDS de la compañía Bruker.

En la fotografía de izquierda a derecha en la fila de atrás:

Dr. Joel Molina del INAOE , Puebla.; Ing. Jonathan Sanchez de Veracruz; Marcelo Arévalos de la compañía SAX de Santiago, Chile; Oscar Núñez de la Universidad Politécnica ; Emmanuel Chavez , practicante en nLab; Ing. Eduardo Perez de nLab.

En la fila de adelante :

Ing. Carlos Segovia , Biol. Karla Villaseñor , Dra. Ivonne Rosales todos de nLab, Lizeth Reséndiz de la Universidad Politécnica del   Edo de Mexico, Dra. Edna Vázquez del Centro de Ciencias Físicas , UNAM, Cuernavaca;  Jonathan Emmanuel Zarate del CIICAP ,de la UAEM.

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